GL4 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间的快速切换。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
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