GL300 SR-F是天仁微纳全自动步进式紫外纳米压印光刻设备，采用天仁微纳专利CLIV压印技术，确保压印结构精度和结构填充完整性。设备支持自动对位、自动压印和自动脱模，可高效地进行母模具制作或在基底上进行复杂结构的直接图案化，拼版单元尺寸可灵活定义，轻松应对各种母版由小转大需求，最大压印面积可达310mm×310mm，降低纳米压印光刻母模具的制作成本，使低成本纳米压印生产成为可能。
GL300 S-F纳米压印光刻设备可用于生产适配于天仁微纳全自动纳米压印光刻生产线设备所需的大幅面母模具，实现AR/VR、AR HUD、衍射光学器件、超表面和生物芯片的高效率大批量生产。
全自动步进式纳米压印光刻生产线，最大压印面积300mm×300mm；
CLIV技术，确保压印结构精度和结构填充完整性
步进式纳米压印方式，确保转印精度一致性，大幅度降低大面积纳米压印母模具加工成本；
高精度压印胶涂布单元，可选用Inkjet或puddle dispense等涂布方式；
全自动步进式纳米压印光刻流程，包括自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模等；
标配高功率紫外LED线光源（365 nm），水冷冷却、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料与制程；
提供全套纳米压印工艺与材料以及工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。
