GL P6 R2P是天仁微纳新型全自动面板级辊对版（Roll to PLate）全幅高精度紫外纳米压印光刻设备，可在G6面板（1850x1500mm）上实现高精度的微纳结构复制。根据客户工艺需求，可以灵活配置包含Plasma表面处理、增粘剂（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating压印胶涂布、R2P纳米压印、Photomask对准曝光、喷淋显影、清洗、后处理等工艺模块。
压印过程使用复合工作模具（Working Stamp），工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。工作模具采用卷料供应方式，可在设备中直接原位复制使用，也可使用天仁微纳大幅面辊对辊纳米压印光刻设备成卷批量制造，适合连续生产。压印胶固化使用LED准直光面光源，相比于线光源固化，面光源可显著提高产能，同时可配合Photomask对准曝光和喷淋显影等功能，在面板生产中灵活准确定义产品尺寸，精确控制产品边缘形貌。
各工艺模块之间由机械手连接，精密配合、全自动连续生产，产能可达40片每小时。GL P6 R2P纳米压印光刻设备适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。
G6代线（1850mmx1500mm）全自动面板级全幅高精度紫外纳米压印光刻设备；
辊对版（R2P）纳米压印方式，确保大面积压印结构精度与填充完整性；
工作模具采用卷料供应方式，可在设备中直接原位复制使用，也可使用天仁微纳大幅面辊对辊（R2R）纳米压印光刻设备成卷批量制造，适合连续生产；
标配准直紫外LED面光源（365nm），水冷冷却、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料与制程；相比于线光源固化，面光源可显著提高产能；
掩模版Photomask对准曝光功能，可选择性局部固化压印胶，灵活准确定义产品尺寸；
搭配喷淋显影功能，可精确控制产品边缘形貌；
可根据客户需求选择Inkjet/Slit Coating涂布方式；
各工艺模块之间由机械手连接，精密配合、全自动连续生产，产能可达40片每小时；
提供从设备客制化、厂务配套设计、材料选型与工艺流程联合开发、设备安装调试一直到驻厂陪同客户产品通线全周期保姆式服务，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。
