GL P6 R2P是天仁微纳新型全自动面板级辊对版（Roll to PLate）全幅高精度紫外纳米压印光刻设备，可在G6面板（1850mm × 1500mm）上实现高精度的微纳结构复制。根据客户工艺需求，可以灵活配置包含Plasma表面处理、增粘剂（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating压印胶涂布、R2P纳米压印、Photomask对准曝光、喷淋显影、清洗、后处理等工艺模块。
压印过程使用复合工作模具（Working Stamp），工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。工作模具采用卷料供应方式，可在设备中直接原位复制使用，也可使用天仁微纳大幅面辊对辊纳米压印光刻设备成卷批量制造，适合连续生产。压印胶固化使用LED准直光面光源，相比于线光源固化，面光源可显著提高产能，同时可配合Photomask对准曝光和喷淋显影等功能，在面板生产中灵活准确定义产品尺寸，精确控制产品边缘形貌。
各工艺模块之间由机械手连接，精密配合、全自动连续生产，产能可达40片每小时*。GL P6 R2P纳米压印光刻设备适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。
G6代线（1850mm × 1500mm）全自动面板级全幅高精度紫外纳米压印光刻设备；
辊对版（R2P）纳米压印方式，确保大面积压印结构精度与填充完整性；
工作模具采用卷料供应方式，可在设备中直接原位复制使用，也可使用天仁微纳大幅面辊对辊（R2R）纳米压印光刻设备成卷批量制造，适合连续生产；
标配准直紫外LED面光源（365nm），水冷冷却、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料与制程；相比于线光源固化，面光源可显著提高产能；
掩模版Photomask对准曝光功能，可选择性局部固化压印胶，灵活准确定义产品尺寸；
搭配喷淋显影功能，可精确控制产品边缘形貌；
可根据客户需求选择Inkjet/Slit Coating涂布方式；
各工艺模块之间由机械手连接，精密配合、全自动连续生产，产能可达40片每小时*；
提供从设备客制化、厂务配套设计、材料选型与工艺流程联合开发、设备安装调试一直到驻厂陪同客户产品通线全周期一站式服务，助力客户快速实现低成本、高效率量产。
兼容基底尺寸 |
G6：1850mm × 1500mm 向下兼容G5、G4.5 特殊规格可定制 |
支持基底材料 |
兼容玻璃、塑料、金属等各种刚性、柔性基底 |
纳米压印技术 |
线性顺序接触 CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
上下片方式 |
机械手自动上下片 |
基底厚度 |
0.4-0.7mm（可定制） |
工作模具 |
卷材供应软膜 可在设备中原位复制 也可使用天仁微纳辊对辊压印设备批量生产 |
保型率 |
＞99%* |
对位精度 |
可优于< ±10μm* |
机台旋转角度控制范围 |
±5°（精度0.01°） |
紫外固化光源 |
紫外LED（365nm）面光源，准直光源，水冷冷却 |
光源均匀性 |
优于90% |
自动压印 |
支持 |
自动脱模 |
支持 |
压电精密点胶 |
支持 |
自动对位 |
支持 |
产能 |
G6（1850x1500mm）基底可达40片/小时* |
*参数取决于模具、材料、工艺和使用环境，非设备极限
*天仁微纳保留对本信息的最终解释权