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GL310 Cluster 310 mm方片全自动纳米压印光刻生产线GL310 Cluster

GL310 Cluster全自动纳米压印光刻生产线集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻整套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现200/300mm晶圆及310mm × 310mm方形基底上全自动高精度(优于10nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制量产。

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GL310 Cluster 310 mm方片全自动纳米压印光刻生产线

GL 2200 R2R 1850mm~2200mm幅宽辊对辊纳米压印光刻设备GL 2200 R2R

GL 2200 R2R是天仁微纳新型全自动辊对辊（Roll to Roll）高精度紫外纳米压印光刻设备，可在1850mm~2200mm幅宽柔性基底上实现连续高速、高精度的微纳结构复制。设备包含高精度压印胶涂布工艺单元，可根据不同压印胶黏度范围灵活搭配不同涂布方式。

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GL 2200 R2R 1850mm~2200mm幅宽辊对辊纳米压印光刻设备

GL P6 R2P 6代线（1850mm × 1500mm） 面板级辊对版纳米压印光刻设备GL P6 R2P

GL P6 R2P是天仁微纳新型全自动面板级辊对版（Roll to PLate）全幅高精度紫外纳米压印光刻设备，可在G6面板（1850mm × 1500mm）上实现高精度的微纳结构复制。根据客户工艺需求，可以灵活配置包含Plasma表面处理、增粘剂（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating压印胶涂布、R2P纳米压印、Photomask对准曝光、喷淋显影、清洗、后处理等工艺模块。

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GL P6 R2P 6代线（1850mm × 1500mm） 面板级辊对版纳米压印光刻设备

GL P6 SR 6代线（1850mm × 1500mm）面板级步进式纳米压印光刻设备GL P6 SR

GL P6 SR是天仁微纳新型全自动面板级步进式（Step & Repeat）高精度紫外纳米压印光刻设备，可将小面积模具通过步进式压印方式高精度复制到G6面板（1850mm × 1500mm）基底上，拼版单元尺寸可灵活精确定义，轻松应对各种母模具由小转大需求，完美解决面板级微纳结构母模具制造困难问题。

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GL P6 SR 6代线（1850mm × 1500mm）面板级步进式纳米压印光刻设备

GL P2 CLIV 2代线（370x470mm） 高精度紫外纳米压印光刻设备GL P2 CLIV

GL P2 CLIV是天仁微纳新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在G2面板（370mm × 470mm）上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10:1*）纳米结构复制。

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GL P2 CLIV 2代线（370x470mm） 高精度紫外纳米压印光刻设备

GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE 100mm&200mm&300mm 紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE

GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE是天仁微纳新型全幅高精度紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备，集成了紫外压印和热压印功能，可以分别进行紫外压印和热压印工艺，也可同步原位实现紫外压印/热压印结合工艺。

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GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE 100mm&200mm&300mm 紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备
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