GL310 Cluster Gen2全自动纳米压印光刻生产线集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻整套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术，可实现200/300 mm晶圆及300x300mm/310x310 mm方形基底上全自动高精度(优于10 nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制量产。
GL300 SR-F是天仁微纳全自动步进式紫外纳米压印光刻设备，采用天仁微纳专利CLIV压印技术，确保压印结构精度和结构填充完整性。设备支持自动对位、自动压印和自动脱模，可高效地进行母模具制作或在基底上进行复杂结构的直接图案化，拼版单元尺寸可灵活定义，轻松应对各种母版由小转大需求，最大压印面积可达310mm×310mm，降低纳米压印光刻母模具的制作成本，使低成本纳米压印生产成为可能。
GL400 SR-V是天仁微纳全自动步进式（Step & Repeat）紫外纳米压印光刻生产线，可高效地进行母模具制作或在基底上进行复杂结构的直接图案化，拼版单元尺寸可灵活定义，轻松应对各种母版由小转大需求，最大压印面积可达400mm×400mm，降低纳米压印光刻母模具的制作成本，使低成本纳米压印生产成为可能。
GL 2200 R2R是天仁微纳新型全自动辊对辊（Roll to Roll）高精度紫外纳米压印光刻设备，可在1850mm~2200mm幅宽柔性基底上实现连续高速、高精度的微纳结构复制。设备包含高精度压印胶涂布工艺单元，可根据不同压印胶黏度范围灵活搭配不同涂布方式。
GL P6 R2P是天仁微纳新型全自动面板级辊对版（Roll to PLate）全幅高精度紫外纳米压印光刻设备，可在G6面板（1850x1500mm）上实现高精度的微纳结构复制。根据客户工艺需求，可以灵活配置包含Plasma表面处理、增粘剂（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating压印胶涂布、R2P纳米压印、Photomask对准曝光、喷淋显影、清洗、后处理等工艺模块。
GL P6 SR是天仁微纳新型全自动面板级步进式（Step & Repeat）高精度紫外纳米压印光刻设备，可将小面积模具通过步进式压印方式高精度复制到G6面板（1850x1500mm）基底上，拼版单元尺寸可灵活精确定义，轻松应对各种母模具由小转大需求，完美解决面板级微纳结构母模具（Master）制造困难问题。
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