GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（Wafer Level Optics - WLO）工艺开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm以下晶圆上平行复制生产微纳光学器件。
GL6 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。该设备可灵活集成包括高精度紫外纳米压印模块、晶圆级光学（Wafer Level Optics - WLO）压印模块以及热压印模块在内的不同配置，在一台设备上实现多种不同的纳米压印工艺。
UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。
LED (n)PSS Printer是一种专门为图形化蓝宝石衬底（PSS/nPSS）量产开发的纳米压印光刻设备，可实现2、4、6英寸(n)PSS结构纳米压印工艺全自动生产。
LED (n)PSS Cluster是一种专门为图形化蓝宝石衬底（PSS/nPSS）量产开发的纳米压印光刻生产线，可实现2、4、6英寸(n)PSS结构纳米压印工艺全自动生产。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
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