GL4 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。该设备可灵活集成包括高精度紫外纳米压印模块、晶圆级光学（Wafer Level Optics - WLO）压印模块以及热压印模块在内的不同配置，在一台设备上实现多种不同的纳米压印工艺。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
LED (n)PSS Printer是一种专门为图形化蓝宝石衬底（PSS/nPSS）量产开发的纳米压印光刻设备，可实现2、4、6英寸(n)PSS结构纳米压印工艺全自动生产。
LED (n)PSS Cluster是一种专门为图形化蓝宝石衬底（PSS/nPSS）量产开发的纳米压印光刻生产线，可实现2、4、6英寸(n)PSS结构纳米压印工艺全自动生产。
GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE是天仁微纳新型全幅高精度紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备，集成了紫外压印和热压印功能，可以分别进行紫外压印和热压印工艺，也可同步原位实现紫外压印/热压印结合工艺。
GL P2 CLIV是天仁微纳新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在G2面板（370x470mm）上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。
天仁微纳公司产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。如需了解详情，请点击在线浏览或者下载查看。
