GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在200mm以下晶圆面积上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了纳米压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8 CLIV Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的研发和量产。
经过量产验证的200mm高精度、高深宽比结构纳米压印设备；
CLIV技术，确保压印结构精度与填充完整性；
设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；
自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；
标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料；
标配设备内部洁净环境与除静电装置；
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。
| 兼容基底尺寸 | 2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | 单片机械手自动上下 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 | 紫外纳米压印（UV-NIL），CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
| 压印精度 | 优于10nm* |
| 结构深宽比 | 优于10:1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |