GL300 MLA是天仁微纳新型专门为晶圆级光学加工（Wafer Level Optics - WLO）开发的全自动紫外纳米压印光刻设备，可在200/300 mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
GL150 CLIV & GL300 CLIV是天仁微纳新型全自动高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现最大150/300mm晶圆面积上高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制量产。
UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。
GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。
GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在200mm以下晶圆面积上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。
GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（Wafer Level Optics - WLO）工艺开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm以下晶圆上平行复制生产微纳光学器件。
天仁微纳公司产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。如需了解详情，请点击在线浏览或者下载查看。
