会议名称：NIL Industrial Day 2026（第 15 届纳米压印工业日）
举办时间：2026年6月1日-2日
举办地点：德国柏林
主办方：micro resist technology GmbH、PROFACTOR
演讲时间：德国时间 6月1日 17:15-17:30
演讲亮点：分享自主纳米压印设备研发突破、AR 光波导 / 微纳光学 / 半导体领域产业化方案，解析中国 NIL 技术规模化落地路径，展现 “中国智造” 全球竞争力。
诚邀全球同仁莅临会议交流探讨、共话技术、共谋合作！我们在柏林，共启纳米压印新征程