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天仁微纳闪耀 SEMICON China 2025,展现纳米压印技术魅力 < 返回

2025-03-28

2025年3 月25日至 28 日,全球半导体行业的盛会 SEMICON China 2025 在上海新国际博览中心隆重举行,天仁微纳作为纳米压印技术领域的佼佼者,携其先进的设备与技术精彩亮相,吸引了众多专业人士的目光。

在此次展会上,天仁微纳展出了多款纳米压印光刻设备,其中包括适用于晶圆级光学加工的高精度设备、面板级纳米压印光刻设备以及为研发设计的桌面型设备等。这些设备凭借其高精度、高深宽比、高产能等优势,展现了天仁微纳在纳米压印技术领域的强大实力。展会期间,天仁微纳的展位前人头攒动,众多半导体行业的从业者、科研人员以及相关企业代表纷纷前来咨询交流,对天仁微纳的产品和技术表现出了浓厚的兴趣。

天仁微纳的工作人员热情接待每一位访客,详细介绍了纳米压印技术在半导体芯片、微纳光学元件等领域的广泛应用以及公司设备的独特性能和工艺优势。通过现场演示和讲解,观众们对纳米压印技术有了更深入的了解,也对天仁微纳在推动该技术产业化发展方面所做出的努力和取得的成就表示高度认可。

SEMICON China 2025 为天仁微纳提供了一个与行业精英交流合作的绝佳平台。未来,天仁微纳将继续加大研发投入,推动纳米压印技术的不断创新和升级,进一步提升设备性能和工艺水平,推动纳米压印技术在全球范围内的广泛应用。

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