2025年4月22日，2025中国（成都）国际精密光学技术与应用大会在成都盛大召开，众多精密光学领域的企业和专家齐聚一堂，共同探讨行业前沿技术与发展趋势。在这场备受瞩目的行业盛会中，天仁微纳公司凭借其在纳米压印光刻技术领域的深厚积累与创新成果，成为大会焦点之一。
天仁微纳公司董事长冀然博士在大会上做了主题为“纳米压印光刻”的精彩报告。冀然博士深入浅出地阐述了纳米压印光刻技术的原理、优势以及在精密光学领域的广泛应用前景。他指出，纳米压印光刻技术具有高精度、高效率、低成本等特点，能够满足日益增长的微纳光学元件制造需求，为光学领域的发展注入强大动力。冀然博士的报告内容丰富、见解独到，引发了与会人员的广泛关注和热烈讨论。
此次参展不仅是天仁微纳公司展示自身实力与技术优势的绝佳机会，更是与行业同仁交流合作、携手共进的重要平台。通过参加本次大会，天仁微纳公司进一步提升了品牌知名度和行业影响力，为未来的发展奠定了坚实基础。未来，天仁微纳将继续深耕纳米压印光刻技术，推动精密光学行业向更高水平迈进，为全球光学技术发展贡献更多力量。